Spende 15. September, 2024 – 1. Oktober, 2024
Über Spenden
Suche nach Büchern
Bücher
Spende:
69.2% erreicht
Einloggen
Einloggen
für autorisierte Benutzer stellen folgendes zur Verfügung:
Persönliche Empfehlungen
Telegram-Bot
Downloadverlauf
an E-Mail-Adresse oder Kindle senden
Bücherlisten verwalten
in Favoriten speichern
Persönlich
Suchanfrage nach dem Buch
Erkunden
Z-Recommend
Bücherlisten
Meistgefragt
Kategorien
Teilnahme
Spenden
Hochladen
Litera Library
Papierbücher spenden
Papierbücher hinzufügen
Search paper books
Mein LITERA Point
Suche nach den Begriffen
Main
Suche nach den Begriffen
search
1
Микролитография
Моро У.
рис
резиста
мкм
patent
травления
резистов
technol
sci
резист
пленки
soc
пмма
резисты
экспонирования
травление
vac
electrochem
изображения
дхн
appl
поверхности
проявления
abstr
табл
скорость
phys
литографии
резисте
линии
ния
слой
таблица
толщины
по
solid
слоя
si02
плазме
удаления
кремния
iвм
пленок
излучения
пластин
обработки
скорости
процесса
реакции
размеров
энергии
Sprache:
russian
Datei:
ZIP, 82.44 MB
Ihre Tags:
0
/
0
russian
2
Современная фотолитография
Зеленцов С.В.
,
Зеленцова Н.В.
фоторезиста
слоя
маски
ch3
фотолитографии
фоторезистов
процесса
слой
качестве
масок
резистной
фоторезисты
мкм
ch2
изображения
травления
заявл
опубл
полимера
экспонирования
нхд
подложки
счет
resist
наиболее
основе
proc
материала
слое
плазме
резистных
элементов
высокой
процесс
полимеризации
получения
технологии
spie
приводит
настоящее
пленки
формирования
фоторезист
заявка
резиста
фоторезистных
химическим
c.g
кремния
образованием
Sprache:
russian
Datei:
PDF, 474 KB
Ihre Tags:
0
/
0
russian
3
Компьюторное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами. Курс лекций
Издательство "МИСИС"
Юрчук С.Ю.
рис
фоторезиста
резиста
изображения
электронов
экспонирования
элементов
мкм
моделирование
энергии
близости
литографии
процесса
изображение
травления
exp
излучения
пучка
процессов
зависит
определяется
волны
поверхности
подложки
рисунка
способность
формирования
маски
резист
топологического
электронной
моделирования
параметров
фотолитографии
электронного
метода
пленки
процесс
проявления
системы
топологии
фотолитографических
электроны
луча
плотность
помощью
размеры
разрешение
распределение
формы
Jahr:
2013
Sprache:
russian
Datei:
PDF, 23.37 MB
Ihre Tags:
0
/
0
russian, 2013
1
Folgen Sie
diesem Link
oder finden Sie einen Bot "@BotFather" in Telegram
2
Senden Sie Befehl /newbot
3
Geben Sie den Namen für Ihren Bot an
4
Geben Sie den Benutzername für den Bot
5
Kopieren Sie die letzte Meldung von BotFather und fügen Sie hier ein
×
×